我国突破光刻胶“卡脖子”技术

2025-12-17 01:33 来源：电子发烧友

在芯片制造领域,光刻胶用光引发剂长期被美日韩企业垄断,成为制约我国半导体产业发展的关键“卡脖子”技术。近日,这一局面被打破——湖北兴福电子材料股份有限公司以4626.78万元收购湖北三峡实验室重大科技成果“光刻胶用光引发剂制备专有技术及实验设备所有权”,标志着我国在这一关键材料领域实现突破性进展。

“这不仅是一项技术成果的市场转化,更是我国半导体产业链自主可控进程中的重要突破。”业内专家评价,作为光刻胶的“心脏”组件,光引发剂的国产化突破,将为国产光刻胶产业打通上游关键堵点,缓解国内半导体企业“卡脖子”的紧迫压力。

“卡脖子”之痛:光引发剂成国产光刻胶软肋

在芯片制造的“微细雕刻”工序中,光刻胶是不可或缺的核心材料,被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。而光引发剂作为光刻胶的关键功能成分,直接决定了光刻胶的感光度、分辨率和成像质量,是影响芯片制程精度的核心要素之一。

长期以来,全球半导体光刻胶市场被日本JSR、东京应化、美国陶氏化学等海外巨头垄断,其中G/I线光刻胶用光引发剂作为芯片和显示领域的基础材料,几乎完全依赖美日韩进口。中商产业研究院数据显示,2024年我国光刻胶市场规模达80.5亿元,同比增长25.39%,但半导体光刻胶90%的市场份额被海外厂商掌控,上游关键原材料的“卡脖子”问题尤为突出。

“近年来,国内许多半导体客户频繁遭遇光引发剂限购和断供,导致国产光刻胶生产线频频‘停摆’。”湖北三峡实验室主任池汝安直言,光引发剂的供应短缺,已成为制约国内半导体产业链稳定运行的重要瓶颈。这种供应链风险在逆全球化趋势下愈发凸显,推动关键材料国产化成为产业共识。

“这是一次市场需求倒逼的研发创新,企业出题,实验室答题。”湖北三峡实验室主任表示。

三年攻坚:“企业出题、实验室答题”的产学研范本

这次技术突破的背后,是一场“市场需求倒逼研发创新”的产学研协同攻关。主攻电子级磷酸、硫酸等湿电子化学品的兴福电子,早有切入光引发剂产业赛道的规划,但从0到1的核心技术研发风险让企业望而却步。“一旦研发失败,巨大的投入和时间成本将难以承受。”兴福电子总工程师贺兆波的顾虑,正是国内不少企业在关键材料研发上的普遍困境。

企业的痛点,成为科研机构的攻关方向。2021年底由兴发集团牵头成立的湖北三峡实验室,将微电子新材料列为核心研究方向之一,其科研团队以“90后”“00后”为主力,长期深耕半导体关键化学品研发。当兴福电子提出委托研发意向后,实验室当即组建专项团队,开启光引发剂关键技术的攻坚之旅。

“面向产业需求做研发,本就是湖北实验室的特色和使命。”池汝安介绍,研发团队历经三年上千次实验,在分子结构设计、合成工艺控制、材料纯化技术等多个关键环节取得突破,最终攻克了光引发剂制备的核心技术难题。2025年5月,上海一家光刻胶龙头企业的检测结果给出了关键验证:“送样各项指标与国外进口厂商达到同一水平。”

2月9日,兴福电子发布公告,宣布以4626.78万元收购湖北三峡实验室的“光刻胶用光引发剂制备专有技术及实验设备所有权”。评估报告显示,该专有技术估值达4155.87万元。

配套的实验设备共46台,包括开式反应锅、冷媒槽、冷水槽等三个合成模块的放大制备工艺装置。这些设备目前保养良好,可正常使用。

此次交易构成关联交易,兴福电子表示,这将进一步拓展公司产品品类、优化产业布局,提高公司在半导体行业的竞争力。

责任编辑：石旭